Son yýllarda mikro elektronik uygulamalarda submikron ölçülerde integral devreler kullanýlmaktadýr. Bu devrelerde kullanýlan ýþýða duyarlý polimer rezistlerin kalitesi, bu ölçüler küçüldükçe daha da önemli hale gelmektedir. Bu uygulamalarýn yakýn gelecekte daha da artacak olmasý, yeni türde geliþtirilmiþ polimer rezistlere olan ihtiyacý daha da arttýrmaktadýr.
Polimer kaplamalarýn moleküler tasarýmý, ýþýða duyarlý polimerlerin sentezi, zincirlerdeki moleküler dizilim þekli ile litografik parametreler arasýndaki iliþkiler yaklaþýk olarak bilinmektedir. Çalýþmamýzda molekül kütlesi (Mn) 140.000 olan polistirenin (PS) asetik anhidritle BF3.O(C2H5)2 katalizörlüðünde açilasyonundan elde edilen açil gruplu PS’lerin alifatik yapýlý doymuþ ve doymamýþ aldehitlerle (asetaldehit, propiyonaldehit, krotonaldehit) bazik katalizör ortamýnda kondensasyonundan aromatik halkasýnda aktif fonksiyonel –CO-CH=CH-CH3; –CO-CH=CH-CH2-CH3; –CO-CH=CH-CH=CH-CH3 gibi doymamýþ keton gruplar içeren modifiye PS’ler (MPS) sentezlenmiþ, yapýlarý kimyasal ve spektral analizle tespit edilmiþ ve ýþýða hassaslýk özellikleri spektral analiz yöntemiyle ve çözünürlüklerine göre araþtýrýlmýþtýr. UV ýþýn etkisiyle MPS’nin aromatik halkasýnda doymamýþ –CH=CH– baðlarýn azaldýðý belirlenmiþtir. Analizlere göre krotonaldehit ile kondensasyon sonucunda yapýsýnda -CO-CH=CH-CH=CH-CH3 grubu bulunduran MPS’nin ýþýða daha duyarlý olduðu ve bu nedenle UV ýþýn etkisiyle -CH=CH–CH=CH– baðý için karakteristik olan 1665 cm-1 pikinin daha kýsa olduðu ve çözünürlük tayininde kütlece %50 Borneol sensibilizatör aktivatörü ilave edilerek MPS filmlerinin çözünürlüklerinin %30,7’ye kadar düþtüðü belirlenmiþtir. Sentezlenen doymamýþ keton gruplu PS filmlerin çözünürlüklerinin UV ýþýnlarýn etkisiyle azaldýðý ve polimere baðlanan doymamýþ keton gruplarýn yapýsýna baðlý olarak deðiþtiði görülmüþtür.
Anahtar Kelimeler: Iþýða duyarlýlýk, Modifiye polistiren, Alifatik aldehitler, Çözünürlük.
|
