Son yıllarda mikro elektronik uygulamalarda submikron ölçülerde integral devreler kullanılmaktadır. Bu devrelerde kullanılan ışığa duyarlı polimer rezistlerin kalitesi, bu ölçüler küçüldükçe daha da önemli hale gelmektedir. Bu uygulamaların yakın gelecekte daha da artacak olması, yeni türde geliştirilmiş polimer rezistlere olan ihtiyacı daha da arttırmaktadır.
Polimer kaplamaların moleküler tasarımı, ışığa duyarlı polimerlerin sentezi, zincirlerdeki moleküler dizilim şekli ile litografik parametreler arasındaki ilişkiler yaklaşık olarak bilinmektedir. Çalışmamızda molekül kütlesi (Mn) 140.000 olan polistirenin (PS) asetik anhidritle BF3.O(C2H5)2 katalizörlüğünde açilasyonundan elde edilen açil gruplu PS’lerin alifatik yapılı doymuş ve doymamış aldehitlerle (asetaldehit, propiyonaldehit, krotonaldehit) bazik katalizör ortamında kondensasyonundan aromatik halkasında aktif fonksiyonel –CO-CH=CH-CH3; –CO-CH=CH-CH2-CH3; –CO-CH=CH-CH=CH-CH3 gibi doymamış keton gruplar içeren modifiye PS’ler (MPS) sentezlenmiş, yapıları kimyasal ve spektral analizle tespit edilmiş ve ışığa hassaslık özellikleri spektral analiz yöntemiyle ve çözünürlüklerine göre araştırılmıştır. UV ışın etkisiyle MPS’nin aromatik halkasında doymamış –CH=CH– bağların azaldığı belirlenmiştir. Analizlere göre krotonaldehit ile kondensasyon sonucunda yapısında -CO-CH=CH-CH=CH-CH3 grubu bulunduran MPS’nin ışığa daha duyarlı olduğu ve bu nedenle UV ışın etkisiyle -CH=CH–CH=CH– bağı için karakteristik olan 1665 cm-1 pikinin daha kısa olduğu ve çözünürlük tayininde kütlece %50 Borneol sensibilizatör aktivatörü ilave edilerek MPS filmlerinin çözünürlüklerinin %30,7’ye kadar düştüğü belirlenmiştir. Sentezlenen doymamış keton gruplu PS filmlerin çözünürlüklerinin UV ışınların etkisiyle azaldığı ve polimere bağlanan doymamış keton grupların yapısına bağlı olarak değiştiği görülmüştür.
Anahtar Kelimeler: Işığa duyarlılık, Modifiye polistiren, Alifatik aldehitler, Çözünürlük.
|
